韓中日の特許庁トップ　知的財産権分野の協力強化で一致

【済州聯合ニュース】韓国の成允模（ソン・ユンモ）特許庁長と中国国家知識産権局の申長雨局長、日本特許庁の宗像直子長官が６日、韓国南部・済州で第１７回韓中日特許庁長官会合を開いた。知的財産権に関する３カ国間の懸案や関心事を話し合った上で、３カ国による「協力フレームワーク」を採択し、知的財産権分野の協力を強化することにした。

　協力フレームワークは韓中日特許庁間の協力の範囲と形態を定めたもので、１年余りの協議の末に初めて文書化された。グローバルな知的財産権制度の発展に向け責任ある役割を果たし、協力のアイデンティティーも確立すべきとの見解で一致し、採択に至った。第４次産業革命に対応する知的財産権の保護策を共同研究し、韓中日の特性に合った新たな協力の方向性も模索することで合意した。

　成氏は「特許制度の導入と発展はこれまで欧州と米国が主導してきたが、今後は東アジアに注目すべきだろう」とし、今回の会合結果を「知的財産権分野の３カ国間協力を未来につなげる新たな転機になる」と評価した。

　この３カ国で世界の特許出願の５６％、意匠出願の７６％占めている。

　３カ国会合に先立ち開かれた韓日特許庁長官会合では、人工知能の特許行政適用に関し具体的な協力範囲を設定することで合意した。世界で知的財産権の出願が日々増加し、第４次産業革命の技術が相次ぎ出現する中で、両国が具体的な対応に着手することになる。

　７日午後には知的財産権に関する韓中日のユーザー向けシンポジウムが開かれる。３カ国の特許庁トップも出席する。

mgk1202@yna.co.kr